1100C Трубчаста піч для спікання з відновленням водню
1100C Трубчаста піч для спікання з відновленням водню

1100C Трубчаста піч для спікання з відновленням водню

1.1200/1100 градусів високотемпературної термообробки
2. Регулятор температури Yudian 518P, підтримка кількох програм
3. Підтримка автоматичного вимкнення тривоги з виявленням горіння H2
4. Максимальна підтримка вакууму -0,1 МПа
5. Вакуумний насос в комплекті
6. Роздільна конструкція дверей для легкого розміщення кварцової трубки
Послати повідомлення

Опис трубчастої печі H2

 

Воднева трубчаста піч 1100 градусів, розроблена та виготовлена ​​компанією XINKYO, має відновлення воднем, високу температуру 1100 градусів, багато-ступеневе керування-температурою, яке можна програмувати за часом, точне керування, автоматичне відключення-подачі газу, автоматичне запалювання, сигналізацію надмірного тиску, сигналізацію витоку та інші заходи безпеки. Він підтримує такі програми:

1.Яскравий відпал металевих матеріалів, таких як нержавіюча сталь/легована сталь (304/316L, високо-нікелеві сплави тощо)
2.Відновлення та очищення оксидів металів, наприклад відновлення тугоплавких металів: оксид вольфраму (WO₃), оксид молібдену (MoO₃), оксид заліза (Fe₂O₃) тощо.
3.Відновлення попередників каталізатора: PtO₂, NiO, Co₃O₄ тощо.
4.Спікання порошків магнітних матеріалів: таких як залізо-кремній-алюміній, залізо-порошки нікелевих сплавів
5.Модифікація спеціальних матеріалів, як-от відновлення TiO₂ для одержання чорного титану (TiOx), з подальшою високо-температурною обробкою в атмосфері водню
6.Отримання інтерметалічних сполук: таких як TiAl, NiAl та ін.
7.Синтез і обробка наноматеріалів, таких як підготовка вуглецевих матеріалів: вуглецеві нанотрубки та графен, вирощені на поверхнях каталізатора, як обладнання для нагріву ядра в системах CVD (хімічне осадження з парової фази).
8.Отримання нанометалів/оксидів: розкладання прекурсорів металів в атмосфері водню
9.Обробка напівпровідників та електронних матеріалів, наприклад обробка GaAs, GaN

10.Водневий відпал складних напівпровідникових підкладок;

11.Попередня-обробка електронних компонентів: високотемпературна{1}}воднева обробка металевих проводів і керамічних підкладок.

Вид на водневу трубчасту піч

 

 

 

  • H2 sintering furnace
     
  • H2 burning
  • open door view of H2 tube furnace
     
  • hydrogen reduction furnace

Технічні параметри трубчастої печі Н2

 

температура 1200/1100 градусів
Зона обігріву Customzied (Діаметр трубки та уточнення довжини нагрівання є обов’язковим для завантаження зразків)
Матеріал труби Кварцова трубка високої чистоти
Прикладна атмосфера Підтримка H2, N2, Ar. тощо
Двері відкриті Рожни двері
Система безпеки H2 1. Автоматичне відключення при підвищеному тиску 2. Автоматичне запалювання при досягненні значення за замовчуванням 3. Сигналізація при витоку 4. Автоматичне виявлення
Вогнетривка камера Плита з керамічного волокна 1430 градусів Al2O3 із вбудованим нагрівачем дроту опору HRE
Регулятор температури Yudian 518P, підтримка PID та автоматичного-налаштування, 30 сегментів температури-програмування часу
Точність контролю ±1 градус
Термопара Тип К
Корпус печі Двошаровий корпус з примусовим повітряним охолодженням
зручність В комплект входять вольтметр і амперметр для легкого усунення несправностей, візуалізація цифрового дисплея тиску, універсальні колеса з функцією гальмування.
Вакуумний насос Роторно-лопатевий вакуумний насос в комплекті
Максимальний вакуум -0,1 МПа (позитивний тиск менше або дорівнює 0,02 МПа)
Напруга Індивідуальна підтримка 110 В ~ 600 В (покупець повинен уточнити)
Гарантія 1 рік гарантії з довічною підтримкою (за винятком витратних частин, таких як нагрівач, трубка, ущільнювальне кільце)
Атестація CE, ISO9001: 2015, SGS, національне високотехнологічне підприємство

 

 

 

Популярні Мітки: 1100c Відновлювальна воднева спікальна трубчаста піч для відпалу, Китай 1100c Відновлювальна спікальна трубчаста піч для відпалу, виробники, постачальники